ESTUDIO DE PELICULAS AISLANTES DE SILICIO, OXIGENO Y NITROGENO DEPOSITADAS POR PLASMA ECR-CVD.

Autor: HERNANDEZ MUÑOZ M. JESUS
Año: 1997
Universidad: AUTONOMA DE MADRID
Centro de realización: DEPARTAMENTO: FISICA APLICADA PROGRAMA DE DOCTORADO: FISICA APLICADA
Centro de lectura: CIENCIAS
Director: GARRIDO SALAS JAVIER
Tribunal: BAILON VEGA LUIS ALBERTO , RODRIGUEZ RODRIGUEZ TOMAS , PIQUERAS PIQUERAS JUAN , MARTIL DE LA PLAZA IGNACIO , ELIZALDE PEREZ-GRUESO EDUARDO
Resumen de la tesis

Estudio de las propiedades opticas y electricas de peliculas de oxido, nitruro y oxinitruros depositadas sobre silicio mediante deposito en fase vapor asistido por plasma de resonancia ciclotron de electrones. Entre las propiedades estudiadas figuran la velocidad de deposito, el indice de refraccion, la composicion y la densidad de carga, evaluadas mediante elipsometria espectroscopica, espectroscopia IR, tecnicas electricas capacitativas y conductivas.
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