ESTUDIO DE LA DEPOSICION DE SICILIO POR TRANSPORTE QUIMICO EN FASE DE VAPOR (CTV) A PARTIR DE ALEACIONES COBRE-SILICIO.

Autor: TEJEDOR JORGE PALOMA
Año: 1985
Universidad: COMPLUTENSE DE MADRID
Centro de realización: U.E.T. DE MICROELECTRONICA DEL INSTITUTO DE ELECTRONICA DE COMUNICACIONES (C.S.I.C.). MADRID Y ENERGY RESEARCH INSTITUTE - GOLDEN CO.
Centro de lectura: QUIMICA
Director:
Tribunal: ALARIO FRANCO MIGUEL , GONZALEZ UREÑA ANGEL , JIMENEZ ASENJO FELIPE , LUQUE LOPEZ ANTONIO , PICO MARIN CARLOS
Resumen de la tesis

ESTE TRABAJO ESTUDIA EL TRANSPORTE QUIMICO EN FASE DE VAPOR DE SILICIO CON HC1 MEDIANTE LA TECNICA VAN ARKEL- DE BOER A PARTIR DE ALEACIONES : SI COMO NUEVA VIA DE PURIFICACION DE SILICIO METALURGICO. EL SILICIO TRANSPORTADO ES POLICRISTALINO DE TIPO N Y RESISTIVIDAD 0.1-1.0 OHM. CM. DICHO MATERIAL TIENE UNA PUREZA DEL 99 9999%. LA PURIFICACION CONSEGUIDA ES EL RESULTADO DE CUATRO MECANISMOS DIFERENTES; LA ELIMINACION DE IMPUREZAS EN FORMA DE OXIDOS Y SILICATOS EN LA ESCORIA DE FUNDICION LA SELECTIVIDAD QUIMICA INHERENTE AL TRANSPORTE EN (FASE DE VAPOR) LA RETENCION DE IMPUREZAS EN LA FASE Y LA CONDENSACION DE IMPUREZAS EN FORMA DE CLORUROS EN LAS ZONAS FRIAS DEL REACTOR. LA VELOCIDAD DE TRANSPORTE ESTA CONTROLADA POR LA CINETICA DE LAS REACCIONES QUIMICAS SUPERFICIALES QUE CONDUCEN A LA FORMACION DE SILICIO POR REDUCCION DE LA ESPECIE .