ESTUDIO DE ALEACIONES SILICIO-CARBONO DEPOSITADAS MEDIANTE TECNICAS ASISTIDAS POR PLASMA DE RESONANCIA CICLOTRON DE ELECTRONES.

SE HAN DEPOSITADO CAPAS DE ALEACIONES SILICIO-CARBONO Y SILICIO-CARBONO-NITROGENO SOBRE SILICIO, POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, ASISTIDA POR PLASMA DE RESONANCIA CICLOTRON DE ELECTRONES (ECR-CVD), A BAJA TEMPERATURA DE SUSTRATO. SE HAN CONSEGUIDO UNA COMPLETA DESHIDROGENACION DE LAS CAPAS DE A-SIC:H EMPLEANDO TRATAMIENTOS TERMICOS RAPIDOS A ALTA TEMPERATURA EN VACIO. SE HAN OPTIMIZADO LAS CONDICIONES DE DEPOSICION CONSIGUIENDOSE UN CRECIMIENTO DE CAPAS DE SIC MICROCRISTALINO CON TEMPERATURAS DE SUSTRATO INFERIORES A 500 GRADOS C. SE HAN CONSEGUIDO CAPAS DE SICXNY UNIFORMEMENTE DEPOSITADAS Y QUE NO PRESENTAN PROBLEMAS ELASTICOS DE RELAJACION O COMPRESION. SE HA OBTENIDO UNA RELACION ENTRE LAS PROPIEDADES OPTICAS DE LAS CAPAS DEPOSITADAS CON LOS PARAMETROS DE DEPOSICION Y MAS CONCRETAMENTE SE HA ENCONSTRADO QUE SON CONTROLABLES CON LA VARIACION DE LA RAZON ENTRE LOS GASES PRECURSORES.